MEMS 微纳加工
MEMS 微纳加工
减薄
通常在晶片封装前,需要对晶片背面多余的基体材料去除一定的厚度,这一工艺过程称之为晶片减薄。在后道制程阶段,晶圆(正面已布好电路的硅片)在后续划片、压焊和封装之前需要进行背面减薄加工以降低封装贴装高度,减小芯片封装体积,改善芯片的热扩散效率、电气性能、机械性能及减小划片的加工量。
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减薄 ·Si,GaAs,GaN,InP,玻璃,蓝宝石,陶瓷等
均匀性 ·±2um
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