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公司简介
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无锡中慧芯科技有限公司,位于无锡市滨湖区十八湾路288号湖景科技园,是一家专注于微纳加工、MEMS器件设计加工的公司,致力于为客户提供更快更优的MEMS解决方案。
公司团队成员深耕MEMS行业多年,拥有十多年丰富的微纳加工、MEMS器件开发及制造能力,技术成熟,工艺经验丰富...
Product & Service
产品与服务
专业为高校、科研机构及企业提供一站式微纳加工代工、MEMS器件加工、流片服务。
Advantages
核心优势

纳米尺度·卓越精准

满足MEMS、光子芯片等严苛精度需求

多元材料·一站式解决

覆盖硅基、金属、陶瓷等30+材料微纳加工

深度协同·按需定制

支持从图纸→样品→量产的全程敏捷响应

创新驱动·技术护城河

持有30+项微纳加工相关资质

News
行业资讯
薄膜沉积全覆盖,MEMS镀膜代工赋能多层结构精密制造
2026.07.09
薄膜沉积全覆盖,MEMS镀膜代工赋能多层结构精密制造
随着MEMS器件向微型化、高精度、多功能集成方向快速迭代,单一薄膜工艺已无法满足复杂器件的制造需求。多层薄膜堆叠结构成为MEMS传感器、微执行器、微流控器件等核心产品的核心设计形态,对薄膜沉积的均匀性、保形性、层间适配性提出了严苛要求。全覆盖薄膜沉积技术作为MEMS微纳制造的核心工艺,搭配专业化镀膜代工服务,可高效适配各类多层结构制备需求,破解传统镀膜工艺的覆盖不均、层间干扰、精度不足等行业难题。
MEMS代工主流干法刻蚀技术原理与加工优势
2026.07.01
MEMS代工主流干法刻蚀技术原理与加工优势
微机电系统(MEMS)器件朝着微型化、高精度、高集成度方向快速迭代,刻蚀作为MEMS代工核心微纳加工工艺,直接决定器件的结构精度、性能稳定性与良率。相较于传统湿法刻蚀,干法刻蚀凭借精准的结构塑造能力,成为当前MEMS代工领域的主流工艺,广泛应用于传感器、微执行器、微型流体器件等产品的规模化生产。干法刻蚀依托等离子体作用实现材料去除,融合物理轰击与化学反应双重机制,完美适配MEMS复杂高深、精细化的
光刻掩膜版:芯片制造的精密底片
2026.06.24
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集成电路制造包含沉积、光刻、刻蚀等上千道工序,光刻是决定芯片图形尺寸下限的核心环节,而光刻掩膜版,便是光刻工艺里不可或缺的图形母版,如同传统相机底片,承载全部电路设计信息,是连接芯片设计与晶圆制造的关键载体。一、掩膜版基础工作原理一套完整光刻系统由光源、照明系统、掩膜版、投影物镜与涂胶硅片构成。光源经过光路穿过掩膜版透明区域,遮光区域阻挡光线,透过的光束经透镜成像在光刻胶表面,使光刻胶发生光化学反
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