2025.06.18
微纳加工中的光刻技术:接触式光刻、步进式光刻与电子束光刻
光刻技术作为微纳加工的核心工艺,通过图形转移实现高精度微结构制备。根据曝光方式的不同,光刻技术可分为接触式光刻、步进式光刻和电子束光刻等。本文将对这三种光刻技术的工作原理、特点、优缺点及应用进行详细分析。1. 接触式光刻1.1 工作原理接触式光刻是传统的光刻方式之一,其基本流程包括:涂胶:在基片(如硅片)表面旋涂光刻胶(正胶或负胶)。曝光:将掩模版与光刻胶直(Mask)接接触,利用紫外光(UV)照