2025.07.10
浅谈半导体微纳加工中的EUV光刻技术
在半导体制造领域，微纳加工技术是推动芯片性能提升的关键。随着摩尔定律的持续推进，传统的光刻技术已逐渐接近物理极限。极紫外（EUV，Extreme Ultraviolet）光刻技术的出现，为半导体器件的进一步微缩提供了可能。本文将探讨EUV光刻的原理、技术挑战及其在微纳加工中的应用，揭示其在先进半导体制造中的核心地位。1. EUV光刻的基本原理EUV光刻采用波长为13.5 nm的极紫外光，远短于传统
