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公司简介
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无锡中慧芯科技有限公司,位于无锡市滨湖区十八湾路288号湖景科技园,是一家专注于微纳加工、MEMS器件设计加工的公司,致力于为客户提供更快更优的MEMS解决方案。
公司团队成员深耕MEMS行业多年,拥有十多年丰富的微纳加工、MEMS器件开发及制造能力,技术成熟,工艺经验丰富...
Product & Service
产品与服务
专业为高校、科研机构及企业提供一站式微纳加工代工、MEMS器件加工、流片服务。
Advantages
核心优势

纳米尺度·卓越精准

满足MEMS、光子芯片等严苛精度需求

多元材料·一站式解决

覆盖硅基、金属、陶瓷等30+材料微纳加工

深度协同·按需定制

支持从图纸→样品→量产的全程敏捷响应

创新驱动·技术护城河

持有30+项微纳加工相关资质

News
行业资讯
键合工艺:后摩尔时代,芯片堆叠的原子级粘合剂
2026.08.06
键合工艺:后摩尔时代,芯片堆叠的原子级粘合剂
当先进制程不断逼近物理极限,单纯依靠缩小晶体管尺寸来提升芯片性能的路径已经愈发艰难。异构集成、芯粒堆叠成为行业破局的主流方向,而晶圆键合,正是实现多芯片异构融合的底层核心工艺。所谓键合,就是将两片表面清洁、原子级平整的同质或异质半导体材料,经过表面清洗和活化处理,在特定工艺条件下直接结合,依靠范德华力、分子力乃至原子间作用力,把多枚晶片牢牢合为一体的制造技术。它不需要胶水、焊料等中间介质,在原子
等离子体刻蚀:从物理轰击到原子级精密图形调控
2026.07.30
等离子体刻蚀:从物理轰击到原子级精密图形调控
在半导体芯片制造流程中,等离子体干法刻蚀是实现纳米图形转移、三维微结构成型的核心工序。等离子体内部同时存在高能离子、活性自由基、中性粒子,刻蚀依靠物理作用与化学反应耦合完成,通过调控两种作用的占比,可实现不同形貌、精度、选择性的加工需求。等离子体刻蚀体系粒子作用示意图一、纯物理溅射刻蚀:单向轰击的基础工艺物理刻蚀又称溅射刻蚀,依靠电场加速的正离子垂直轰击衬底,依靠动量冲击击碎材料晶格,将表面原子剥
AI与先进封装全面爆发!晶圆减薄已成3D堆叠核心刚需工艺
2026.07.23
AI与先进封装全面爆发!晶圆减薄已成3D堆叠核心刚需工艺
当下半导体行业,AI算力升级、Chiplet异构集成、3D IC三维堆叠成为核心发展主线,先进封装彻底告别传统低端封装模式,迈入高密度、小型化、高可靠性的精密制造新阶段。在此行业变革下,曾经仅作为辅助工序的晶圆减薄工艺,彻底逆袭成为决定芯片性能、散热能力、封装良率与长期可靠性的核心关键工艺。如今主流先进封装场景中,晶圆厚度已从传统工艺的数百微米,降至100μm以下;高端三维集成器件,更是需要做到5
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