2025.06.18
微纳加工中的光刻技术：接触式光刻、步进式光刻与电子束光刻
光刻技术作为微纳加工的核心工艺，通过图形转移实现高精度微结构制备。根据曝光方式的不同，光刻技术可分为接触式光刻、步进式光刻和电子束光刻等。本文将对这三种光刻技术的工作原理、特点、优缺点及应用进行详细分析。1. 接触式光刻1.1 工作原理接触式光刻是传统的光刻方式之一，其基本流程包括：涂胶：在基片（如硅片）表面旋涂光刻胶（正胶或负胶）。曝光：将掩模版与光刻胶直（Mask）接接触，利用紫外光（UV）照
